第一三八六章 光刻機的現狀（下）

    “董事長，要是Nikon在我們之前，率先攻克157nm激光器技術，率先研發成功65nm製程工藝的光刻機，我們如何應對？”

    CTO湯普森知道EUV光刻機不是短時間內能研制成功的，也主張兩條腿走路，GCA研究院如今也在研發157nm激光器，由於GCA一直以研發EUV爲主，157nm激光器的技術遠不如Nikon和SVG，投資10美元，要是能夠收購SVG，拿到SVG獨有的157nm激光器需要配置的反折射鏡頭技術，不能反超Nikon，也能同Nikon並肩齊驅。

    孫董事長不同意公司收購SVG，湯普森也不理解。

    EUV LLC聯盟規劃投資2億美元，集合200多位頂尖科學家，目的就是從理論上驗證了EUV光刻機的可行性？理論驗證完成後，EUV LLC聯盟將宣佈解散，將研製EUV和EUV光刻機的難題交給GCA，據同行在一起估算，研發投資起碼要花50億美元！

    湯普森領導EUV LLC聯盟的200多位科學家，研究了2年多，還沒有驗證清楚EUV光刻機的可行性？

    “湯普森院長的擔憂也有道理，除了加強研發力量繼續研究157nm激光器技術外，艾德里安先生可以同Papken先生接觸一下，看對方是否願意出售反折射鏡頭技術的專利？價格可以商量”

    Papken是SVG的首席執行官。

    孫健本來不想在董事會上談論收購SVG的事情，但湯普森的提問代表GCA高層的疑惑，不得不正面迴應。

    當時因爲BSEC研究院光源研究所還沒有研發成功193nm浸沒式光刻機技術，孫健不反對GCA研究院兩條腿走路，但BSEC研究院光源研究所去年已經研發成功193nm浸沒式光刻機技術，GCA再繼續投入巨資研發157nm激光器就是多此一舉，但也不能打擊衆人的積極性。

    “好的，董事長！”

    艾德里安心裏好奇，爲什麼孫董事長不同意收購SVG？似乎對研發157nm激光器技術不是特別支持，難道還有更好的方法？明白Papken不會低價出售反折射鏡頭技術的專利。

    “湯普森院長，EUV LLC聯盟一旦從理論上驗證了EUV光刻機的可行性後，要是GCA繼續研發EUV光刻機，理論上大概需要多少投資”

    孫健轉移話題，也是告訴公司高層，GCA賬上的現金流不是多了，而是遠遠不夠。

    前世，EUV LLC聯盟的幾百位頂尖科學家在一起聯合研發了6年多，發表了幾百篇科研論文，從理論上驗證了EUV光刻機是可行的，目的達到，解散了EUV LLC聯盟，接下來的實際問題都拋給了ASML，面對如此高深的技術，ASML是選擇做還是不做？

    ASML一家之力不可能完成研制成功EUV光刻機這項宏偉工程，不得不拿出公司近三成的股權，向下游光刻機重要客戶Intel、臺積電和三星電子融資了60多億美元！

    據說爲了研發EUV光刻機，ASML前前後後在將近20年時間內投入上百億美元的研發費用。

    GCA和Nikon佔據光刻機的高端市場，技術水平不分仲伯，但由於高端光刻機用戶Intel、IBM、IT、ADM、HP同GCA既是Sematech會員，又是GCA的股東，採用一致對外的策略，GCA的高端光刻機是首選，GCA如今佔據全球高端市場份額的近7成，NiKon佔3成多。

    在技術水平相同的情況下，市場起決定因素。

    根據光刻機技術和市場佔有率，GCA如今成爲名副其實的全球老大，Nikon屈居第二。

    Nikon想從GCA的手裏搶回Intel、IBM、IT、ADM、HP的高端光刻機訂單，只能率先攻克193nm波長的世界性難題，第一個研發成功65nm製程工藝的光刻機才有可能。

    在Nikon技術領先的情況下，Intel、IBM、IT、ADM、HP就會以公司的利益爲重。

    ASML的工程師瓊斯帶領20多人的研發部門經過3年多時間的研發，於1996年9月，研發成功全球第二款具有自主知識產權的光刻機雙工作平臺系統，但爲時已晚，ASML和其他光刻機公司都購買了BSEC的專利技術，自己生產光刻機雙工作平臺系統，BSEC負責升級；除了GCA，其他公司生產一臺光刻機需要繳納相當於每臺光刻機售價1的專利使用費。

    GCA如今已經升級配套90nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統技術，遙遙領先於ASML的技術，按照專利技術轉讓協定，BSEC交給了Nikon、ASML、Canon和SVG。

    全球光刻機用戶已經習慣使用BSEC磁懸浮式雙工作臺系統技術，ASML在中高端光刻機上還是使用BSEC的，在低端光刻機上使用自研的。

    魏建國等BSEC的高層們都敬佩孫董事長的遠見卓識，1999年度，公司光靠這項全球領先的公司發明專利，收取的專利技術轉讓費就達到公司淨利潤的165，這些年賺得盆滿鉢滿。

    ASML先後在阿姆斯特丹和納斯達克上市，研發資金有了保障，去年10月，第三個研發成功180nm製程工藝的光刻機，技術水平排在Canon的前面，憑藉歐洲和韓國光刻機市場，佔據全球中高端市場5成的市場份額。

    第三大股東飛利浦公司不看好ASML的發展前景，加上公司電器業務出現問題，造成資金緊張，在高位逐漸清空了ASML的股票，退出了董事會，蔡司集團成爲第三大股東。

    ASML如今總股本增加到15000萬股（去年10送5股），TIC持有2250萬股，佔股15，這些年沒有買也沒有套現。

    ASML在納斯達克市場上的股票收盤235美元，L不僅是一個投資品種，也是一個備胎。

    “孫總，據大家私下估算，沒有50億美元的投入，看不到EUV光刻機的影子。”

    湯普森感覺壓力巨大，孫董事長似乎知道研究EUV光刻機的重要性和難度，投入巨資，最後失敗了，GCA可能要破產！

    衆董事也是一臉驚訝，這是第一次從湯普森的口裏得知，即使EUV LLC聯盟驗證EUV光刻機的可行性，GCA繼續研發EUV光刻機，起碼還需要50億美元的研發投入！

    一旦失敗，對GCA將造成毀滅性的打擊，但孫董事長似乎並不擔心。