第一二零三章 500nm光刻機研制成功

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    臨近年尾，孫健有許多大事要處理，不會爲終審法院的判決而長吁短嘆，昨天接到魏建國的電話，8英寸晶圓和500nm製程工藝光刻機在BSEC研制成功！

    雖然在10月底就接到好消息，研發工程已經到了尾聲，但真正接到確鑿的消息，孫健還是很高興的，當天就乘飛機來到京城，向全體研發人員表示祝賀，當場宣佈公司拿出300萬元，按照貢獻大小，獎勵全體研發人員。

    從6英寸晶圓、800nm製程工藝光刻機到8英寸晶圓、500nm製程工藝光刻機是一道大坎，BSEC投資了8億元，耗費了18個月！

    一旦跨過，BSE、180nm製程工藝光刻機就相對容易一些。

    因爲鄧國輝院士領導的光刻機光源研究所經過三年多的努力，7月14日，研制成功全球第一臺浸沒式193nm光刻機試驗機，波長達到134nm，突破了193nm波長極限的世界性難題，因所用的光學系統是委託CarlZeissAG生產的，沒有完全自主的知識產權，祕而不宣，等BSEC光刻機光學研究所研製的光學系統達到要求後，再申請公司發明專利。

    從193nm乾式光刻機到193nm浸沒式光刻機，突破了193nm波長極限的世界性難題，是一種劃時代的光刻技術。

    前世90年代末，隨着摩爾定律的繼續演進，光刻機製程工藝從130nm進入90nm，晶圓尺寸也從8英寸升級到12英寸，但大家都沒想到，半導體產業在193nm波長上卡了將近20年！

    大家發現，乾式193nm光刻機的極限制程工藝是65nm，再往下就很難實現了，如何突破65nm，跨入40nm製程工藝，成爲阻擋在所有半導體廠商面前的攔路虎。

    G兩大光刻機巨頭如今正在研製130nm製程工藝的光刻機，上面還有90nm、65nm製程工藝的光刻機，還沒有碰到65nm製程工藝的極限！

    BSEC所採用的光刻機光源是GmArF準分子激光器，爲了掌握其核心技術，鄧國輝和錢富強率領光刻機光源研究技術人員丟掉對方的圖紙，重新研製了一遍，BSEC光刻機公司如今能生產滿足1um製程工藝、800nm製程工藝和500nm製程工藝的193nmArF準分子激光器，按照雙方當初簽訂的公司發明專利轉讓協定，這些準分子激光器只能在BSEC光刻機上使用。

    1995年7月，錢富強晉升研究員，擔任光刻機光源研究所所長。

    鄧國輝院長主持BSEC光刻機研究院的全盤工作。

    BSEC能生產8英寸晶圓、500nm製程工藝的光刻機，雖然離G製程工藝的光刻機，還差350nm、250nm和180nm三道關口，但這一步跨出去是多麼的不易？

    不親自參與其中，不知道研發過程中的艱難！

    BSE製程工藝的半導體生產線只是時間問題。

    從1996年6月開始，BSEC投資8億元用於研發8英寸晶圓和500nm製程工藝光刻機，一晃就過去了18個月，由鄧國輝、歐陽明、陳偉長和夏季常等四位院士主持的這項系統性的研發工程終成正果。

    光刻機自動化研究所早就準備好了滿足500nm製程工藝光刻機所需要的磁懸浮式雙工作臺系統，這套系統是GCA1995年在BSEC提供的公司發明專利基礎上研發成功的，專利屬於BSEC。

    夏季常院士帶領研究所科研人員又研製一遍，性能更加完善！又研製了一遍滿足350nm（也是GCA研發成功）製程工藝光刻機所需要的磁懸浮式雙工作臺系統。

    1996年5月，夏季常院士帶領光刻機自動化研究所率先研制成功滿足250nm製程工藝光刻機所需要的磁懸浮式雙工作臺系統。

    BSEC光刻機公司如今能生產能滿足各種製程工藝光刻機的磁懸浮式雙工作臺系統，訂單生產。

    磁懸浮式雙工作臺系統如今還是全球唯一的雙工作臺系統，這也是孫健的功勞。

    講求效益的美國人也信奉造不如買，從不擔心被人卡脖子！

    像GCA和ASML等五成的光刻機公司選擇BSEC生產的磁懸浮式雙工作臺系統，像Nikon和等五成的光刻機公司購買BSEC的公司發明專利，自己組織生產。

    避免浪費寶貴的人力和資金，在孫健的指示下，GCA光刻機半導體研究院從1996年6月開始，停止研發和生產磁懸浮式雙工作臺系統，原有的32名研發人員被BSEC光刻機自動化研究所全部接收，古斯特裏求之不得，直接購買BSEC生產相配套的磁懸浮式雙工作臺系統，從沒想過BSEC會掐GCA的脖子。

    32名研發人員的加入，BSEC光刻機自動化研究所如虎添翼，夏季常院士領銜研製的滿足180nm光刻機所需要的磁懸浮式雙工作臺系統已經量產。

    1996年12月，歐陽明院士帶領硅片製造研究所研發成功具有自主知識產權的8英寸晶圓，也是一項偉大的創舉。

    陳偉長院士帶領光刻機光學研究所，最後研發成功滿足500nm光刻機所需要的光學系統。

    BSEC最後系統合成，光刻機公司生產了二臺500nm製程工藝光刻機研試驗樣機。

    8英寸晶圓、500nm製程工藝光刻機的研發和生產是一項複雜的系統性工程，光源系統、光學系統和雙工作臺系統缺一不可。

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    12月13日，韓元對美元的匯率突然降至1737.60:1，韓元危機也衝擊了在韓國有大量投資的日本金融業。

    11月15日， 韓國爆發金融風暴，17日，韓元對美元的匯率跌至創紀錄的1008:1；20日，韓元對美元的匯率跌至1139:1；21日，韓國政府不得不向國際貨幣基金組織求援，暫時控制了危機。

    1997年下半年，東京協和信用社、東京安全信用社、山一證券和北海道拓殖銀行等一系列銀行和證券公司相繼破產。

    日本金融機構不會倒閉的神話破滅了！

    東南亞金融風暴演變爲亞洲金融危機。

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    12月15日。

    韓元匯率大幅貶值的消息在週末發酵。

    恆生指數以10599.4點開盤，低開15.3點，多頭主力出擊，大盤迅速的封補了跳空缺口，上探到10665.9點，空頭機構開始發力，獲利盤和解套盤蜂擁而出，大盤接連被擊破10500點、10400點二道重要關口，最低下探到10346.2點，尾盤多頭主力再度出手，大盤以10435.2點收盤，全天下跌179.5點，跌幅1.68%。