第九六五章 最高水平

    一旦BSEC光源研究所在重生者的指引下，在ArF準分子激光器專利技術的基礎上，研制成功ArFi準分子激光器和浸沒式光刻系統，雖然浸沒式光刻系統的專利技術屬於BSEC，但根據雙方簽訂的專利技術轉讓協定，ArFi準分子激光器的專利技術就屬於GCA！

    GCA生產ArFi準分子激光器，購買BSEC的浸沒式光刻系統專利技術，也能生產浸沒式光刻機。

    早一日研制成功8英寸晶圓、350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，製程工藝最高就能提升到250nm，憑藉提高35%的生產效率，Gikon光刻機的高端市場份額，奪回全球高端光刻機市場。

    峯迴路轉！

    艾德里安、湯普森的心情比魏建國、鄧國輝還急迫。

    談判和簽訂專利技術轉讓協定期間，孫健不在京城，艾德里安和魏建國都拿着他簽署的代理書談判，雙方公司的律師在場監督，並在專利技術轉讓協定上簽字證明。

    專利技術轉讓協定符合中美法律。

    巴T協定禁止8英寸晶圓和500nm製程工藝的半導體生產線出口中G，但沒有禁止ArF準分子激光器出口，800nm製程工藝專利技術也不在禁令之中。

    美國人知道就是中G光刻機公司耗費巨資買到了ArF準分子激光器和800nm製程工藝專利技術，也生產不出6英寸晶圓和800nm製程工藝的半導體生產線。

    光刻機被稱爲半導體產業皇冠上的明珠，佔一條半導體生產線總投資的1/3，除了光源、鏡頭和工作臺三大核心技術之外，還需要光速矯正器、能量控制器、遮光器、能量探測器、掩膜版、掩膜臺和光束形狀設置，復雜程度超過大型航空發動機。

    就像一般飛機製造廠買到一臺頂級航空發動機，也不能生產頂級飛機。

    國內光刻機半導體設備產業停滯了近十年，相關配套產業掉隊太遠，不是短時間用錢能買來的！

    BSEC如今拿到了ArF準分子激光器和800nm製程工藝專利技術，還有獨創的磁懸浮式雙工作臺系統，既不能生產8英寸晶圓、800nm製程工藝的光刻機，也不能生產6英寸晶圓、800nm製程工藝的半導體生產線。

    BSEC還要去買先進的光學系統，進口6英寸晶圓、光刻膠、掩膜版等材料和設備，經過系統合成，就是能生產6英寸晶圓、800nm製程工藝的光刻機，只能算組裝。

    前世ASML生產的EUV光刻機，據說90%的零部件都是從全球5000多家公司採購的，但EUV光源（收購了Cymer）和雙工作臺系統等關鍵技術是自己的，還參股了Zeiss SMT AG近三成的股權，將光刻機的三大核心技術掌握在手裏，由於壟斷經營，淨利潤高達五成，全球5000多家零部件公司排隊供應零部件。

    只要搭上ASML這列豪華列車，零部件公司的股價就會暴漲。

    各國制定的《反壟斷法》在ASML面前如同一張白紙！

    鄧國輝拿到ArF準分子激光器專利技術，同光源研究所所長助理錢富強仔細研究一番後，如醍醐灌頂，豁然開朗，第二天就申請2000萬元的研發資金，定購新的機器設備和材料，如今帶領光源研究所在新的實驗室內，按照GCA提供的技術圖紙，消化吸收ArF準分子激光器專利技術，爲研究ArFi準分子激光器和浸入式系統做準備。

    等機器設備和材料到位後，光源廠工程師和技師將按照光源研究所提供的技術圖紙，生產ArF準分子激光器。

    BSEC由國內最頂尖的三家光刻機半導體設備研究所和三家配套工廠合併而成，集國內光刻機半導體設備的研發、生產、封裝和檢測等技術之大成，代表國內的最高水平，雖然在光刻機光源技術上落後Nikon一代、製程工落後藝四代，但與當年處於鼎盛時期的GCA一樣，擁有芯片生產所需要的光刻機、硅片、熱處理、刻蝕機、離子注入機和光刻膠等六大生產設備和材料的研發和生產能力。

    擁有半導體全產業鏈，不擔心被西方K脖子，但大而不精，大而不強！

    這種尷尬的局面不是重生者願意看到的，這是由國內光刻機半導體研發生產的現狀和所處的國際環境決定的。

    原中K院微電子中心、中K院滬海光學精密機械研究所、第45所、109廠、滬海光學儀器廠和建華機械廠的幹部職工一共735人，多出的13人是魏建國、李昌傑和錢國培遵照孫健的指示，邀請錢富強、鄧中海和張國偉等13名擁有副高和中級職稱的辭職下海科研人員。

    百盟書

    京城是國人嚮往的大都市，住房和戶口都有，一家人從此成爲京城人，先進的實驗室和現代化的工廠，沒有一人捨得放棄這次難得機會，名單外的幹部職工想來，沒門！

    BSEC不是福利院！

    經過高薪引進、競聘和選拔。

    劉明堂研究員擔任光刻膠研究所所長，夏季常教授擔任光刻機雙工作臺系統研究所所長，陳運復研究員擔任刻蝕機研究所所長，楊鴻濤教授擔任光刻機熱處理研究所所長，郭興程研究員擔任掩膜版研究所所長，景清雲教授擔任離子注入機研究所所長，李廣均研究員擔任光刻機半導體信息部部長。

    四十八歲的物理學博士楊鴻濤教授來自於華清大學熱處理研究所。

    四十八歲的計算機博士李廣均研究員來自中K院計算機研究所。

    四十七歲的材料學博士郭興程研究員來自中K院冰城材料研究所。

    四十五歲的華清物理學博士、副研究員錢富強的研究方向就是光刻機光源、KrF準分子激光器，專門請他回到光刻機光源研究所擔任所長助理，協助鄧國輝繼續研究ArF準分子激光器。

    四十三歲的西工大材料學博士、副研究員鄧中海研究硅片製造，擔任硅片製造研究所所長助理，協助歐陽民研發硅晶圓製造。

    四十一歲的華清半導體博士、副研究員張國偉研究光刻膠，擔任光刻膠研究所所長助理。

    三家研究所人才濟濟，不少是國內光刻機半導體方面的領軍人物！

    人才有了，資金有了，擁有國際一流設備和材料的研究院有了，但沒有重生者指引方向，BSEC上下齊心，也追不上Nikon半導體設備公司。

    人才和技術需要沉澱和積累，雙方的實力相差太遠！

    在新進口2500萬美元先進機器設備和材料到位，研制成功磁懸浮式雙工作臺系統，BSEC能獨立完成1.5um製程工藝的制定規格、選擇架構、邏輯設計、電路設計、佈線、製造、測試、封裝和總測試等九道工序，能生產一條具有自主知識產權的4英寸晶圓和1.5um製程工藝的半導體生產線。

    BSEC如今的最高水平，只能生產西方光刻機半導體設備公司十年前淘汰的半導體生產線！