第九五六章 研發極紫外光

    前世雖然Nikon憑藉技術實力和資金實力先後研制成功F2準分子激光器和浸沒式光刻技術，生產成功浸沒式光刻機，但半導體產業更新換代迅速，導致Nikon光刻機的可靠性能始終落後於ASML，從此，全球高端光刻機龍頭Nikon逐漸敗給了全球光刻機新霸主ASML。

    前世由於ASML獨有的EUV光源無人能夠研製，國內光刻機光源生產公司的技術沒有競爭力，以美國爲首的西方國家並沒有限制ArF準分子激光器和ArFi準分子激光器的出口。

    BSEC可以直接進口市場價45五萬美元一臺的GCA牌ArF準分子激光器，購買蔡司公司生產的光學系統，進口6英寸晶圓，加上獨創的光刻機磁懸浮式雙工作臺系統，就能生產1um製程工藝的光刻機，雖然6英寸晶圓、1um製程工藝的半導體生產線是西方國家淘汰的生產線，但在國內還大有市場。

    BSEC就可以活下來！

    理想很美好，但現實很骨感，BSEC就是能製造1um製程工藝的光刻機，不代表能生產6英寸晶圓、1um製程工藝的半導體生產線！

    國內缺乏半導體生產線設備的全產業鏈，如今都壓在了BSEC的肩上。

    BSEC生產的1um製程工藝的光刻機也沒有晶圓公司會用！

    誰投資誰倒黴，這就是“造不如買、買不如租”的主要原因！

    好在193nm波長的世界性光學難題將困惑光刻機行業八年，給了BSEC成長的機會，不然重生者也無能爲力。

    BSEC的突破點就是趕在ASML之前率先研制成功世界上第一臺193nm波長的浸沒式光刻機！

    孫健所有的運作就是圍繞這個突破點！

    EUV光刻機太過複雜，即使投入巨資研發成功EUV光源，但對相關的光學系統、光刻膠、掩膜版等設備和材料的要求太過苛刻，需要十萬個零件，據說前世有五千多家生產商爲EUV光刻機供貨，重生者還不敢付諸實踐。

    “孫董事長，BSEC能否不轉讓磁懸浮式雙工作臺系統專利給Nikon？”

    擁有了BSEC的磁懸浮式雙工作臺系統專利的終身授權，GCA光刻機光學精密設備研究所升級改造，只要研制成功適應800nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統（不能出售和轉讓專利技術），GCA光刻機的製程工藝就有可能達到500nm，達到Nikon光刻機的製程工藝，購買休斯電子材料公司（AEMC）生產的8英寸晶圓，還能提高35%左右的產能。

    有了磁懸浮式雙工作臺系統和蔡司公司的光學系統，Gikon重新爭奪高端光刻機市場份額的資本。

    但前提是BSE。

    “艾德里安總經理，BSEC開發的光刻機磁懸浮式雙工作臺系統拿到日本和歐美國家簽發的公司發明專利，要等18個月左右。”

    “孫董事長，我放心了！”

    艾德里安頓時輕鬆了一大截，孫董事長還是挺幽默的。

    “湯普森院長，公司如今經費緊張，光源研究所是繼續研製ArF準分子激光器？還是像Nikon開始研製F2準分子激光器？”

    “孫董事長，我認爲光源研究所應該另闢蹊徑，開始研製波長只有十幾個納米的極紫外光？”

    GCA在八五年就研制成功ArF準分子激光器，在光刻機光源領域全球領先，但在透鏡和反射鏡構成的光學系統方面遜於Nikon半導體設備公司不斷提升的光學系統，加上光刻機光源被卡在193nm波長上多年，又遭遇全球芯片生產的衰退期，光刻機的霸主地位逐漸被光學系統不斷提升的Nikon半導體設備公司搶走，年年虧損，公司裁人，技術人員流失，淪落到兩次被賤賣的地步。

    “湯普森院長預測光源研究所，能在多長的時間內研制成功極紫外光？”

    孫健心中一喜，他不是不想投資研製極紫外光，而是擔心投資太大，即使研制成功，沒有配套的光學系統和相適應的光刻膠、掩膜版等，GCA也生產不出EUV光刻機！

    前世，舉國之力研製13.5nm的EUV光源也沒有結果，在世界上只有ASML控股的Cymer才能生產EUV光源，可見難度之大！

    在光刻機光源方面，光刻機光源後起之秀Cymer如今還不是GCA的對手。

    Cymer前世能成爲光刻機光源的霸主，除了被ASML收購後不斷投入巨資研發外，也有ASML將收購的GCA光刻機光源研究所併入Cymer光刻機光源研究院，強強聯合。

    前世，極紫外光技術的研發成功，不知道湯普森院長在其中發揮的作用？

    GCA光刻機半導體研究院的研究重心應該放在技術領先的ArF準分子激光器和KrF光刻膠研製上。

    GCA與IBM同是Sematech會員，贏者通吃，避免重複研究，不擔心IBM卡B子，IBM壟斷KrF光刻膠十幾年，但不知道什麼原因？前世是信越化學等日本公司在光刻膠上一枝獨秀，還卡了韓國人的脖子！

    “孫董事長，只要能保障光源研究所的研發經費，我保證光源研究所三年內研制成功極紫外光。”

    “湯普森院長，光源研究所需要多少研發經費？”

    湯普森院長不是年輕人，敢打包票，就說明有絕對的把握，重生者不怕花錢！一旦攻克了EUV，能否生產EUV光刻機？GCA都會成爲光刻機行業的領導者！

    “董事長，我需要三千萬元美元的研發經費，購買新的實驗機器和材料。”

    艾德里安和布羅迪等衆人喜憂參半，公司如今的現金流只剩下三百多萬美元，要花錢的地方多的是。

    “湯普森院長，我現在就答應你，要是光源研究所在三年內研究成功極紫外光技術，我承諾獎勵光刻機光源研究所研發團隊五百萬美元，其中一百萬美元獎勵湯普森院長。”

    這個時代的三千萬美元相當於二十年後的三十億美元，可以收購40%ASML的股權，不是一筆小數目！

    即使花了三千萬美元，三年內沒有研發成功，孫健相信GCA的光刻機光源技術和製程工藝也會突飛勐進。

    衆人一臉的驚訝。

    “多謝董事長！”

    湯普森也是一愣。

    先入爲主，重生者二手準備，當然希望湯普森院長率領GCA光刻機光源研究所，率先研制成功EUV，重新成爲光刻機霸主後，GCA收購Cymer和AEMC，強強聯合，就是收購SVG和Ultratech，成爲美國唯一的光刻機公司，與Nikon和競爭，美國政府也會支持。