第181章 救星來了!

類別:科幻靈異 作者:五星造事包字數:2655更新時間:24/06/27 04:31:33
    臨安,蘇省大學微電子學院。

    “通入六甲基二硅胺烷……”

    “硅片脫水完成,增粘處理完成,開始旋轉塗膠。”

    “……”

    這已經是他們不知道進行了多少次的實驗流程了,除了操作員時不時進行流程彙報之外,實驗內悄然無聲。

    數十名研發人員都靜靜地堅守着自己的崗位,偶爾擡頭看一眼設備運行情況,以及站在操控臺中間的那位老人。

    “塗膠檢測完畢,未發現氣泡,開始曝光前烘……前烘完畢,光刻機準備曝光……”

    在實驗有條不紊的推進中,終於到了曝光環節。

    每次進入曝光環節,那短短的十秒鐘,都讓吳利鴻感覺像一個世紀那麼長……

    而在曝光的過程中,加裝在工件臺的的測量儀器也在同時進行瘋狂的數據收集。

    “曝光結束,進入後烘環節,曝光數據正在分析中……”

    “曝光過程總產氣量……”彙報結果的研究員停頓了一下,然後用顫抖的語氣念出了數值,“289立方納米!”

    譁——!

    聽到這個結果,整個實驗室都頓時安靜了下來,隨後便是陣陣驚呼聲。

    “竟然真是光致產酸劑BR-側鍵的問題!”

    “吳院士牛逼啊!”

    “……”

    雖然後烘的具體數據還沒出來,但光是這個產氣量的數據,就已經稱得上是史無前例的重大突破了!

    塗滿12寸的硅片光刻膠,在曝光的過程中,才產出了僅僅289立方納米的氣體,

    而這麼小的產氣量,光刻膠的曝光邊緣肯定非常光滑平整。

    這就意味着更高的清晰度,以及更低的製程。

    可以說,他們已經徹底解決了光刻膠最棘手的產氣量問題!

    吳利鴻聽到這個數據後,臉上也不禁浮現起了一抹如釋重負的笑容,但這卻讓他的臉上的皺紋褶子更多了……

    過了大約十分鐘,曝光後的硅片也已經完成了後烘,並對曝光部分的光刻膠進行了溶解清除,然後又進行了一次堅膜烘焙,加固光刻膠形成的電路保護膜。

    接下來,就是他們這個實驗環節最重要的電路圖像清晰度分析了。

    而最終的分析結果也果然不出他們所料,在降低了98%的產氣量後,他們得到的電路保護膜,表面非常光滑平整,沒有出現任何坍塌變形!

    “膜厚正常,套刻精度正常!”

    聽到這個結果,所有人頓時都激動的看着吳利鴻。

    事實上實驗進行到了這一步,已經基本可以肯定他們的EUV光刻膠,已經達到了13.5納米的製程標準。

    因爲他們蘇省微電子的所有精力,都用來研發光刻膠了,對多重曝光等壓縮製程的工藝,沒有太多的研究,所以13.5納米只是他們研究所的最小製程工藝。

    而這款光刻膠具體的最小製程,得找申城硅產業或者立昂微來做進一步的驗證,尤其是最早拿到EUV光刻機的申城硅產業,經過這幾個月的摸索調試,他們已經把製程工藝推到了5nm。

    不過爲了穩妥起見,吳利鴻還是按捺住激動的心情,對大家開口道:“立即準備蝕刻實驗驗證,確認最後的環節沒問題再送到申城硅產業去。”

    “明白!”

    研究員們聽到後,頓時又開始忙碌了起來。

    本來按照他們之前的實驗流程,實驗到了這一步基本就是失敗了,這次其實根本就沒有做好進入蝕刻環節的準備。

    但面對這個意想不到的巨大驚喜,大家卻沒有一絲‘臨時加班’的怨言,一個個都吭哧吭哧地開始重新準備實驗。

    兩個小時後,最終結果終於出爐了。

    他們研發的光刻膠,成功地經受幹法刻蝕中高能粒子的洗禮,順利完成了保護硅片基底的任務,芯片良品率高達98%!

    在吳利鴻院士的帶領下,蘇省大學微電子研究員,終於成功研發出了一款能勝任13.5nm製程的國產頂級EUV光刻膠!

    而且這個13.5納米製程,只是目前的初步實驗結論。

    從他們這次得到的套刻精度來看,這款光刻膠實際上有相當大的可能,可以勝任5納米製程芯片的製造!

    吳利鴻也非常沉得住氣,沒有選擇立即將實驗結果上報上去,而是讓研究員們按照上次的配方,重新調配了一批光刻膠。

    然後重複做了足足十次實驗,確認每次的結果誤差都在可接受的範圍內後,才帶着光刻膠和團隊的主要技術人員飛往魔都,來到了申城硅產業集團。

    此時的申城硅產業的集團總裁陳雲明恰好在和華威的餘總和何總,討論華威P6的芯片代工問題。

    而雙方討論的要點,就是產量和成本的問題。

    華威本着量大從優的道理,想要直接訂購兩千萬枚麒零9000。

    但申城硅產業現在,其實也就只有一臺秦光一號。

    按照秦光一號每小時180片的硅片吞吐量,以及製造出的每片晶圓可以切割出500枚芯片來算,一臺光刻機每天的產能應該有216萬枚。

    但實際上,光刻機的吞吐量不代表晶圓的製造速度,而是要根據不同芯片的設計,進行多次曝光和蝕刻。

    以麒零9000爲例,它需要經過足足19次光刻-蝕刻循環,才能完成整個晶圓製造環節,

    也就是說,每天理論上只能造11萬枚。

    這還是建立在設備24小時不停機休息和維護,以及100%良率的基礎之上。

    因此實際產能,平均每天能有8萬枚,就已經很不錯了。

    兩千萬枚芯片的訂單,要差不多八個月才能完成,還是把所有產能,都壓榨給華威的情況下。

    何況在如此高負荷的運轉下,他們光刻膠的庫存,都不知道能不能撐得住……

    “……我們也得考慮成本,也要時間來研發3nm的製程工藝,希望你們也能考慮一下我們的難處。”

    陳雲明實在有點受不了兩位老總的軟磨硬泡,最終拍板道,

    “要不就這樣吧,我給你兩個方案,一個是150元300萬枚,一個是200元600萬枚,600萬是極限,已經很夠意思了。”

    “呃……”

    餘總立刻在心裏算了一筆賬。

    按照臺機電5納米製程,13400美元/片晶圓的價格來算,約等於每枚5nm製程的芯片代工費,是187元。

    但臺積電的代工是按晶圓來算的,廢品都給你算錢了,而陳雲明剛剛報的是當個芯片價格,等於去掉了廢品,所以150-200元的代工費,在這個特殊時期,確實相當厚道了。

    “可是陳總,這買賣哪有越多越貴的道理……”

    “這不是情況特殊嘛,如果在庫存光刻膠消耗完之前,國產光刻膠沒有動靜,那我們有光刻機也沒得用啊,只能先省着點花了……”

    “其實還有個辦法,就是伱們去找康博士借點光刻膠給我們,那小子賊精得很,早早地就讓我們幫他屯光刻膠了,現在大漢芯業的光刻機屯得比我們還多!”

    每每想到這裏,陳雲明都有點後悔當初沒有聽康馳的,提前多屯點光刻膠。

    主要是,當初誰能想到他能這麼快搞出EUV光刻機……

    就在餘總還在考慮着,六百萬枚到底能撐多久的時候,陳雲明突擊接到了吳利鴻的電話。

    “吳院士?等等……你說什麼?測試光刻膠?就到樓下了?!”

    “……”

    放下電話的陳雲明,過了半響才緩過神,然後連忙打了個電話給董建元,讓他下去接吳利鴻。

    處理完這些後,他才轉頭看向華威的兩個老總,一臉激動地說道:“我們的救星來了!”

    (本章完)